Технологические процессы
Примеры результатов технологических процессов, полученных на системах Oxfrord Instruments Plasma Technology. Компания Oxford Instruments Plasma Technology – один из ведущих производителей оборудования для плазменно-стимулированного травления и осаждения, ионно-лучевого травления и осаждения, атомно-слоевого осаждения ультратонких пленок, роста наноструктур из газовой фазы. Технологические установки серии PlasmaPro предоставляют непревзойденные технологические возможности для производственных компаний и исследовательских лабораторий, работающих в сфере микроэлектроники, оптоэлектроники, микромеханики и в других областях, связанных с использованием микро- и нанотехнологий. В линейке оборудования PlasmaPro реализованы различные варианты технологий сухого плазменного травления диэлектрических материалов (SiO2, SiNx), полупроводников, кремния, алмазоподобного углерода DLC, жертвенных слоев SiO2, полиамида.
- RIE – надежный, сравнительно недорогой и хорошо отлаженный процесс реактивно-ионного травления материалов.
- PE – технология плазмохимического травления позволяет выполнять изотропное травление и производить плазменную очистку с минимальным ионным повреждением поверхности.
- ICP – высокоскоростное травление с источником индуктивно связанной плазмы для прецизионного и скоростного травления материалов.
Oxford Instruments Plasma Technology предлагает гибкие решения с широкой функциональностью. В разделе вы можете ознакомиться с подробным описанием основных технологических процессов, которые можно осуществлять на установках PlasmaPro.
