Реактивное ионное травление структур SiGe и Si/SiGe/Si

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

 

Рурский университет Бохума: анизотропное травление гетероструктуры Si/SiGe/Si

 

Наномасштабное и глубокое травление германия (Ge)

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

 

Королевский технологический институт, Стокгольм: решетка из Ge с полушагом 25 нм

 

Травление для анализа отказов

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

 

Процессы травления для проведения анализа отказов

 

Реактивное ионное травление стэка SiO2/TiO2

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

 

Реактивное ионное травление стэка SiO2/TiO2 на глубину 4 мкм