Распыление нитрида титана (TiN)

Распыление нитрида титана (TiN), описание процесса и оборудование


Оборудование: PlasmalPro System 400
Количество магнетронов: до 4 при размере мишени 200 мм.

Технологические особенности:

  • Магнетронное распыление;
  • Вращающийся столик;
  • Способ питания - импульсный постоянный ток.

Результаты:

  • Сопротивление 2х10-6 Ом*м (толщина слоя - 400 нм);
  • Отражение (на длине волны 436 нм относительно Si) > 45% (толщина слоя 500 нм);
  • Скорость нанесения: 5 нм/мин (при вращении); 60 nm/min (при статике).

tin_gr1.gif
Зависимость сопротивление TiN от потока азота во время техпроцесса.

tin_gr2.gif
Зависимость коэффициента отражения TiN (относительно Si) от потока азота во время техпроцесса.