Распыление нитрида титана (TiN)

Технологические особенности:

• Магнетронное распыление;
• Вращающийся столик;
• Способ питания - импульсный постоянный ток.

Результаты:

• Сопротивление 2х10^-6 Ом*м (толщина слоя - 400 нм);
• Отражение (на длине волны 436 нм относительно Si) > 45% (толщина слоя 500 нм);
• Скорость нанесения: 5 нм/мин (при вращении); 60 nm/min (при статике).

Зависимость сопротивление TiN от потока азота во время техпроцесса.

Зависимость коэффициента отражения TiN (относительно Si) от потока азота во время техпроцесса.