Skip

Нитрид Титана (TiN)


Оборудование:

PlasmalPro System 400
Количество магнетронов:
до 4 при размере мишени 200 мм

Технологические особенности:
Магнетронное распыление
вращающийся столик
способ питания - импульсный постоянный ток

Результаты:
сопротивление 2х10-6 Ом*м (толщина слоя - 400 нм)
отражение (на длине волны 436 нм относительно Si) > 45 % (толщина слоя 500нм)
скорость нанесения: 5 нм/мин (при вращении); 60 nm/ min (при статике)


tin_gr1.gifЗависимость сопротивление TiN от потока азота во время техпроцесса.

tin_gr2.gif
Зависимость коэффициента отражения TiN (относительно Si) от потока азота во время техпроцесса.