Skip

Изготовление ионно-лучевым методом УФ зеркала HfO2/SiO2

Спектр пропускания УФ зеркала для 266 нм, измеренный на спектрофотометре Cary 500.



Оборудование:
Ionfab 300 Plus

Особенности технологии:
Для изготовления УФ зеркала с пиком на 266 нм нужно 28 чередующихся слоев (HfO2/SiO2)
Процесс проходит в атмосфере аргона и кислорода
Скорости осаждения:
  • HfO2 > 7 нм/мин
  • SiO2 > 12 нм/мин
Равномерность <±0.2% по оптической подложке из кварцевого стекла диаметром 1 дюйм, закрепленной в 8 дюймовом подложкодержателе
Коэффициент преломления HfO2 - 2.112 (на 632,8 нм)
Равномерность HfO2 <±0,5% по подложке в 3 дюйма (±0,1% по 10 мм от центра)
transmission spectrum model
Теоретическая модель рассматриваемого покрытия при углах падения 0о и 45о