Skip

Термическое атомно-слоевое осаждение оксида цинка (ZnO)

Конформный рост нанотрубок ZnO шириной 70 нм и длиной 100 мкм


Оборудование: FlexAl & OpAl


ald.gif

Технологические особенности осаждения:

  • металлический прекурсор: DEZ (диэтилцинк)
  • неметаллический прекурсор: H2О
  • temperature controlled vapour draw
  • доза прекурсора контролируется быстродействующей системой подачи газов
  • температура осаждения: 50 - 200° C
  • время цикла < 4c
  • 1.9 A/цикл (при дозе насыщения)
  • равномерность: < ± 1 % (по 100 мм подложке)
  • повторяемость < ± 1 %
  • содержание основных элементов: Zn~50%, O~50%
  • коэффициент преломления: ~1.90-1.95
  • сопротивление 5х10-3 ом см
zn10.jpg
zn11.jpg
..................
81e1d4a0b4f5654922628aacb7c81a39.jpeg
ААО - анодированный оксид алюминия, получаемый электрохимическим способом на тонком образце алюминия, является шаблоном для получения наноматериалов. Аспектное соотношение может достигать 1000! (диаметр отверстия 50-100 нм, толщина шаблона - 70 мкм). На рисунке типичный шаблон с ААО до и после атомно-слоевого осаждения. Материал ZnO, SiO2 и SiN при ALD проходит сквозь отверстия и образует нанотрубки.

znogrc_p.gif
znoth_te.gif
znoalaes.gif
​Зависимости скорости роста материала за цикл и коэффициента преломления от времени воздействия дозы прекурсора при 150оС.​Зависимости скорости роста материала за цикл и коэффициента преломления от температуры при дозе насыщения - 50 мс. ​Эмиссионная спектроскопия пленок ZnO: Zn:O 1:1 и C<2ат.%