Химическое осаждение (PECVD) оксида алюминия (Al2O3)

Оборудование: PlasmaProSystem 100/133

Технологические особенности:

• Реактор с двумя параллельными электродами;
• Газовый душ для равномерного осаждения;
• Прекурсор - TMA.

Результаты:

• Скорость осаждения: > 20 нм/мин;
• Равномерность: +/-5% по 200 мм пластине;
• Воспроизводимость: +/-2%;
• Коэффициент преломления 1,64.

Зависимость скорости осаждения и коэффициента преломления от температуры осаждения.

РФС анализ пленки Al₂O₃, осажденный при температуре 400°С и n=1.65. Содержание Al - 45%, O₂ - 55%, N и C < 0.5%.