Skip

Глубокое травление полиимида с применением ICP источника

лаборатория OIPT: глубина - 50 мкм


Оборудование:
PlasmaPro80
PlasmaPro100

Особенности технологии:
Реактивное ионное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы (ICP)
гелиевый поддув под подложку, нижний электрод - 13 МГц

Результаты:

3bc7c70c59d1d61984b0978dfcc31fed.jpegdb658c0fe140d5da4230b1273f2c95e8.jpegc0eeebeb69b9a9caf7206e67b1b63597.jpeg
​Травление полиимида на 2-10 мкм​Травление полиимида на 2-10 мкм
​Травление полиимида на 2-10 мкм

SEM

Лаборатория OIPT: глубина 8 мкм, анизотропное травление полиимида с использованием силилированного фоторезиста

  • скорость травления: >1,5 мкм/мин (3 мкм/мин с подтравом)
  • маски: Ti, Al, Cr, W или SiOxNy
  • селективность к Ti маске: >30:1 (к фоторезисту на основе кремния >30:1)
  • равномерность: +/- 3% по 100 мм подложке
  • профиль стенок: анизотропный 89-90о (технологически контролируемый)