Skip

Атомно-слоевое осаждение платины (Pt) - термическое и с применением удаленного источника плазмы

Лаборатория Мичиганского университета: пленка Pt толщиной 20 нм, осажденная на тренчи шириной 75 нм (аспектное соотношение после осаждения покрытия изменилось с 33 до 71).


p7%2007.jpg

Покрытие из платины, осажденное на текстильный материал.

ptald_gt.gif
Зависимость скорости роста пленки от температуры процесса. Можно видеть, что варьирую концентрацией кислорода в удаленной плазме кислород можно получать как чистую Pt пленку, так и оксидную пленку PtO2

ptald_tc.gif
Зависимость толщины пленки от количества циклов атомно-слоевого осаждения.

При чистом термическом ALD сложно получить платиновое покрытие ввиду отсутствия образования связей между атомами платины и кислорода. В этом случае удаленная плазма может помочь в создании зародышевого слоя. Как только процесс ALD платины запущен, он может быть продолжен как термическим механизмом, так и с помощью удаленной плазмы, при этом скорость будет примерно одинакова.

Технологические особенности:

  • металлический прекурсор: MeCpPtMe3
  • неметаллический прекурсор: плазма с содержанием O2
  • наличие водородной плазмы уменьшает температуру осаждения Pt покрытия

Результаты:

  • О2 содержащая плазма значительно снижает время образования зародышевого слоя
  • скорость осаждения 0,45 А/цикл (время цикла 7-8 с) --> 0.3-0.4нм/мин --> 18-24 нм/час
  • сопротивление < 13 мкОм см (равномерность +/- 2 %)


В системах OIPT процесс ALD может быть выполнен с использованием:- только термического механизма- ассистирования озоном- ассистирования удаленной плазмой без изменения конфигурации оборудования.Многошаговый процесс с использованием всех этих технологий может быть применен в случае необходимости