Skip

Титан (Ti)


Оборудование:
PlasmalPro System 400
Количество магнетронов:

  • до 4 при размере мишени 200 мм
  • до 5 при размере мишени 150 мм
  • до 6 при размере мишени 100 мм

Технологические особенности:

  • Магнетронное распыление
  • вращающийся столик
  • способ питания - постоянный ток

Результаты:

  • сопротивление 7х10-7 Ом*м (толщина слоя - 400 нм)
  • отражение (на длине волны 436 нм относительно Si) > 115 % (толщина слоя 500нм)
  • скорость нанесения: 30 нм/мин (при вращении); 300 nm/ min (при статике)
  • равномерность: +/- 5 % (подложка диаметром 6 дюймов )

ti_gr1.gif

Зависимость коэффициента отражения Ti относительно Si от толщины слоя (нанесение при комнатной температуре)


ti_gr2.gif

Зависимость сопротивление титана от толщины слоя (нанесение при комнатной температуре)