Оборудование для плазмохимического и физического травления и осаждения
Технологии плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD), реактивного ионного травления (RIE), атомно-слоевого осаждения (ALD), ионно-лучевого напыления (IBSD), магнетронного распыления (Sputtering) широко применяются в наноэлектронике, оптоэлектронике, производстве МЭМС, тонкопленочных гибридных схем, а также в R&D-лабораториях для модификации поверхностей материалов (нанесения токопроводящих, защитных, диэлектрических слоёв, масок).
Платформа PlasmaPro100
PlasmaPro100 — платформа для систем с поштучной загрузкой через вакуумный шлюз для плазмохимических процессов (RIE, ICP etch, ICP CVD и PECVD). Каталог систем обработки полупроводниковых пластин. Заказать оборудование на платформе PlasmaPro100 для процессов травления и осаждения в компании ТехноИнфо.
Платформа PlasmaPro80
PlasmaPro80 — платформа для компактных систем с открытой загрузкой для плазмохимических процессов (RIE, ICP etch, ICP CVD и PECVD).
Платформа PlasmaPro800
PlasmaPro800 — платформа с открытой загрузкой и большой вместимостью пластин для реактивного ионного травления и плазменного осаждения.
Платформа PlasmaPro1000
PlasmaPro1000 — платформа для максимальных производительности процессов травления и осаждения ориентированных на LED промышленность.
Magnetron Sputtering Tool
Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)
Комплектация, расположение магнетронов и подложек, производительность системы могут варьироваться по требованию пользователя.
E-beam Tool
Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)
Комплектация, производительность и набор опций систем электронно-лучевого и термического испарения могут варьируются в зависимости от требований пользователя.
Система атомно-слоевого осаждения FlexAL
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
Система атомно-слоевого осаждения (ALD) со шлюзовой камерой. Система для самоограничивающегося послойного роста сплошных тонких пленок, отличающихся высокой конформностью.
Nanofab
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
Система для выращивание нанотрубок, нанопроводов и 2D структур плазмохимическим способом.
Ionfab 300Plus
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
Ионно-лучевая система для процессов нанесения и травления.
Ion Beam Tool
Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)
Системы ионно-лучевого травления и нанесения для прецизионных технологических процессов.
Мы предлагаем оборудование для химического осаждения из газовой фазы и вакуумного напыления покрытий, разработанное лидерами мирового рынка — Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) и Scientific Vacuum Systems (SVS). Системы серии PlasmaPro (OIPT) обеспечивают комплексные решения для исследовательских лабораторий и организации серийного производства. Гибкая конфигурация оборудования позволяет выбрать оптимальный вариант исполнения для реализации комбинированных процессов плазменно-стимулированного осаждения из газовой фазы и термического осаждения из газовой фазы (PECVD, ICP-CVD, LPCVD). Основные модули платформ PlasmaPro100, PlasmaPro133 PlasmaPro NGP могут использоваться как в качестве отдельной установки, так и в составе кластерной системы оборудования с установками FlexAl, Ionfab, Nanofab и другими модулями, совместимыми по стандарту MESC.
Компания Scientific Vacuum Systems специализируется на разработке систем физического осаждения покрытий. Мы предлагаем магнетронные, электронно-лучевые и ионно-лучевые установки, которые могут быть поставлены в различных конфигурациях, адаптированных для потребностей R&D-лабораторий или серийного производства. Для подбора оптимального варианта исполнения системы вакуумного напыления или плазмохимического осаждения из газовой фазы и расчета цены оборудования Вы можете оставить заявку на сайте.