Платформа PlasmaPro100

PlasmaPro100 — платформа для систем с поштучной загрузкой через вакуумный шлюз для плазмохимических процессов (RIE, ICP etch, ICP CVD и PECVD).

Платформа PlasmaPro80

PlasmaPro80 — платформа для компактных систем с открытой загрузкой для плазмохимических процессов (RIE, ICP etch, ICP CVD и PECVD).

Платформа PlasmaPro800

PlasmaPro800 — платформа с открытой загрузкой и большой вместимостью пластин для реактивного ионного травления и плазменного осаждения.

Платформа PlasmaPro1000

PlasmaPro1000 — платформа для максимальных производительности процессов травления и осаждения ориентированных на LED промышленность.

Системы магнетронного распыления

Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)

Комплектация, расположение магнетронов и подложек, производительность системы могут варьироваться по требованию пользователя

 

Cистемы электронно-лучевого испарения

Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)

Комплектация, производительность и набор опций систем электронно-лучевого и термического испарения могут варьируются в зависимости от требований пользователя

 

FlexAL

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Cистема атомно-слоевого осаждения (ALD) со шлюзовой камерой. Cистема для самоограничивающегося послойного роста сплошных тонких пленок, отличающихся высокой конформностью

Nanofab

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Система для выращивание нанотрубок, нанопроводов и 2D структур плазмохимическим способом

Ionfab 300Plus

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Ионно-лучевая система для процессов нанесения и травления.

Cистемы ионно-лучевого травления и нанесения

Производство: Scientific Vacuum Systems (SVS)

Cистемы ионно-лучевого травления и нанесения для прецизионных технологических процессов

 

Мы предлагаем оборудование для химического осаждения из газовой фазы и вакуумного напыления покрытий, разработанное лидерами мирового рынка — Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) и Scientific Vacuum Systems (SVS). Системы серии PlasmaPro (OIPT) обеспечивают комплексные решения для исследовательских лабораторий и организации серийного производства. Гибкая конфигурация оборудования позволяет выбрать оптимальный вариант исполнения для реализации комбинированных процессов плазменно-стимулированного осаждения из газовой фазы и термического осаждения из газовой фазы (PECVD, ICP-CVD, LPCVD). Основные модули платформ PlasmaPro100, PlasmaPro133 PlasmaPro NGP могут использоваться как в качестве отдельной установки, так и в составе кластерной системы оборудования с установками FlexAl, Ionfab, Nanofab и другими модулями, совместимыми по стандарту MESC.

Компания Scientific Vacuum Systems специализируется на разработке систем физического осаждения покрытий. Мы предлагаем магнетронные, электронно-лучевые и ионно-лучевые установки, которые могут быть поставлены в различных конфигурациях, адаптированных для потребностей R&D-лабораторий или серийного производства. Для подбора оптимального варианта исполнения системы вакуумного напыления или плазмохимического осаждения из газовой фазы и расчета цены оборудования Вы можете оставить заявку на сайте.