Технологии плазмохимического и физического травления и осаждения

Atomic Layer Deposition (ALD) — реальная нанотехнология, позволяющая осаждать ультратонкие пленки в несколько нанометров с очень точным контролем. Основные особенности и преимущества технологии.

Реактивное ионное травление (RIE) — это простой процесс и экономичное решение в области плазменного травления.