Skip

Сухое травление полидиметилсилоксана (ПДМС)

Травление ПДМС на глубину 90 мкм, контролируемый профиль стенок (здесь 92о)


Оборудование:
PlasmaPro80
PlasmaPro100

Особенности технологии:
Реактивное ионное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы (ICP)
гелиевый поддув под подложку

Результаты:

p5%2001.jpg

Травление ПДМС на глубину 90 мкм, контролируемый профиль стенок (здесь 92о)

Загрязнения связаны с подготовкой образца к анализу.

  • скорость травления 1,2 мкм/мин
  • селективность к Cu маске: >50:1
  • равномерность: +/- 3,5% по 200 мм подложке
  • профиль стенок: 89-95о (технологически контролируемый)
  • повышение температуры ведет к изменению профиля