Реактивное ионное травление ZnO с применением ИСП источника плазмы

Технология:

• Реактивное ионное травление с использованием источника индуктивно связанной плазмы (ICP-RIE);
• Частота возбуждения плазмы 13 МГц;
• Плазма горит между двумя параллельными пластинами.

Результаты:

• Скорость травления: > 100 нм/мин;
• Равномерность: +/-4%;
• Возможные маски: SiO₂, SiN, Ni или фоторезист.