Skip

Реактивное ионно-лучевое травление ниобата лития (LiNbO3)

Глубокое анизотропное травление LiNbO3 - 10 мкм (лаборатория OIPT)



Оборудование:
Ionfab 300 Plus

Особенности технологии:
Аргон и фторсодержащий газ напускают через ВЧ источник
подложка закреплена на охлаждаемом подложкодержателе

Результаты:
скорость травления: 70 нм/мин
селективность к фоторезисту: низкая
профиль: анизотропный
хорошая равномерность (для процесса с одной пластиной)
sem_li_2.jpg
Глубокое анизотропное травление LiNbO3 - 10 мкм (лаборатория OIPT)

Следует отметить некоторые дефекты:
- эрозия фоторезиста приводит к фасеттированию
- "затенение" канавок зависит от величины аспектного соотношения и угла наклона травления