Процессы магнетронного распыления
Напыление меди (Cu)
Напыление сплошной пленки (3мкм) меди на тренч с аспектным соотношением 5:1.
Анализ поверхности
Рентгеновские методы
Биология и биотехнология
Микро- и нано-электроника
Геология
Технологическое оборудование-DEL