PlasmaPro 80 RIE

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

PlasmaPro 80 RIE — это компактная система реактивного ионного травления с открытой загрузкой. Простая в использовании и недорогая система с возможностью реализации высококачественных процессов.

PlasmaPro 80 ICP Etch

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

PlasmaPro 80 ICP Etch — это компактная система для травления в индуктивно-связанной плазме с открытой загрузкой. Источник индуктивно-связанной плазмы модели Cobra, диаметром 65 мм.

PlasmaPro 80 PECVD

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Компактная система PlasmaPro 80 PECVD с открытой загрузкой спроектирована для получения высококачественных диэлектрических пленок.

PlasmaPro 80 ICP CVD

Производство: Oxford Instruments Plasma Technology

Компактная система PlasmaPro 80 ICP CVD с открытой загрузкой спроектирована для получения высококачественных диэлектрических пленок с возможностью ассистирования индуктивно-связанной плазмой