Cистемы электронно-лучевого испарения
Комплектация, производительность и набор опций систем электронно-лучевого и термического испарения могут варьируются в зависимости от требований пользователя
SVS предлагает разные варианты и конфигурации электронно-лучевых систем как для R&D целей, так и для массового производства.
Технологические особенности системы:
- экраны для минимизации загрязнений рабочей камеры
- Возможность установки тиглей для термического испарения в систему электронно-лучевого испарения
- Охлаждение или нагрев подложки (до 800 оС)
- Испарение электронным лучом из одного или нескольких тиглей (размер до 200 см3)
- Оснастка для крепления подложек может включать в себя планетарный механизм с опцией вращением
- контроль скорости осаждения кварцевыми датчиками
- очистка подложек ВЧ смещением или ионным источником
- ионное ассистрование во время осаждения покрытия
- реактивное осаждение
- толщина покрытий от нескольких нанометров до нескольких микрон
- крио- или турбоотчкачка вакуумного объема
- управление системой происходит посредством программируемого логического контроллера через ПК или HMI
- ведение базы данных всех основных параметров процесса
- возможность установки загрузочного шлюза или перчаточной камеры
- мощность электронного пучка 3кВт, 6кВт, 8кВт, 10кВт и 12кВт
- цифровая развертка с выбираемыми треугольной или синусоидальной формой волны, круговым рисунком или вращающейся линией, с программируемым центром и пределами развертки. Есть возможность сохранять несколько шаблонов развертки.
(Eng)
|