Oxford Instruments Plasma Technology Оборудование для постановки передовых технологических процессов и изготовления структур для микро и нано-электроники


Компания Oxford Instruments Plasma Technology предлагает гибко настраиваемое оборудование для постановки передовых технологических процессов и изготовления микро и нано-структур.

  • Атомно-слоевое осаждение (ALD)
  • Плазменные процессы осаждения/травления (PECVD, RIE (РИТ), ICP-RIE (ИСП-РИТ), PE (ПХТ))
  • Ионно-лучевое осаждение/травление (IBE, IBS, RIBE, CAIBE/IBS, DIBD)
  • Магнетронное напыление
  • Выращивание наноструктур
  • Гидридная эпитаксия (HVPE)

Компания OI Plasma Technology производит системы классом от отдельных компактных установок для решения исследовательских задач и опытного производства до кластерного оборудования высокой пропускной способности для решения задач промышленного производства. Все системы поставляются с программным обеспечением PC2000TM, настроенным точно под поставляемую систему. Отличительной особенностью работы компании является всесторонняя поддержка пользователей, отказоустойчивость оборудования и обширная база данных по процессам для работы с различными материалами. Благодаря высокому качеству оборудованию OI Plasma Technology является общепризнанным лидером в области плазмохимических процессов. На данный момент по всему миру установлено около 3000 систем.