Система PlasmaPro 80 ICP CVD
Компактная система PlasmaPro 80 ICP CVD с открытой загрузкой спроектирована для получения высококачественных диэлектрических пленок с возможностью ассистирования индуктивно-связанной плазмой
PlasmaPro 80 ICP CVD - это компактная, простая в использовании система осаждения покрытий с использованием источника индуктивно-связанной плазмы.
- открытая загрузка пластин;
- компактные габариты;
- подходит для исследовательских целей и мелкосерийного производства;
- подложки диаметром до 200 мм;
- быстрая загрузка-выгрузка пластин;
- оптимизированный охлаждающийся нижний электрод с высокой равномерностью поля температур;
- высокопроизводительная система откачки;
