Система для травления PlasmaPro 80 ICP Etch
PlasmaPro 80 ICP Etch — это компактная система для травления в индуктивно-связанной плазме с открытой загрузкой. Источник индуктивно-связанной плазмы модели Cobra, диаметром 65 мм.
Системы на платформе PlasmaPro 80 идеально подходят для научных исследований и разработок или мелкосерийного производства, размеры подложек могут доходить до 200 мм. Отсутствие шлюзовой камеры обеспечивает быструю загрузку-выгрузку пластин, что идеально подходит для исследовательских работ, создания опытных образцов и мелкосерийного производства.
Технологические особенности системы:
- компактные габариты;
- диаметр пластин до 200 мм;
- низкая себестоимость продукции;
- оптимизированная система охлаждения электрода;
- превосходный контроль процесса;
- превосходная равномерность температурного поля по пластине (подложке);
- гибкие пользовательские настройки;
- большое количество возможных процессов;
- превосходный контроль процесса травления и определение скорости процесса.
