Платформа PlasmaPro80
PlasmaPro80 предлагает гибкие эксплуатационные решения для процессов плазменного осаждения и травления. Удобная открытая загрузка и компактные габариты делают эту установку легкой в эксплуатации и размещении без ущерба для качества процесса. Системы на платформе PlasmaPro80 идеально подходят для научных исследований и разработок или мелкосерийного производства, размеры подложек могут доходить до 200 мм. Отсутствие шлюзовой камеры обеспечивает быструю загрузку-выгрузку пластин, что идеально подходит для исследовательских работ, создания опытных образцов и мелкосерийного производства.
PlasmaPro 80 RIE
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
PlasmaPro 80 RIE — это компактная система реактивного ионного травления с открытой загрузкой. Простая в использовании и недорогая система с возможностью реализации высококачественных процессов.
PlasmaPro 80 ICP Etch
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
PlasmaPro 80 ICP Etch — это компактная система для травления в индуктивно-связанной плазме с открытой загрузкой. Источник индуктивно-связанной плазмы модели Cobra, диаметром 65 мм.
PlasmaPro 80 PECVD
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
Компактная система PlasmaPro 80 PECVD с открытой загрузкой спроектирована для получения высококачественных диэлектрических пленок.
PlasmaPro 80 ICP CVD
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
Компактная система PlasmaPro 80 ICP CVD с открытой загрузкой спроектирована для получения высококачественных диэлектрических пленок с возможностью ассистирования индуктивно-связанной плазмой