Травление тантала (Ta) с помощью индуктивно-связанной плазмы

Лаборатория OIPT: травление Ta на 1 мкм.

Технологические особенности:

• Реактивное ионное травление с применением индуктивно-связанной плазмы с помощью ВЧ генератора с параллельными электродами и частотой возбуждения плазмы - 13.56 МГц;
• Среда: хлорсодержащая плазма;
• Анизотропное травление.

Результаты:

• Скорость: > 60 нм/мин;
• Селективность к "электронно-лучевому" резисту > 2:1;
• Селективность к маске из Al₂O₃ > 16:1;
• Очень высокая селективность к лежащим в основе слоям SiN и SiC (рентгеновская поглощающая маска на основе SiN или SiC);
• Равномерность по 4 дюймовой пластине 4%;
• Травление с низким количеством дефектов ввиду низкого (<40В) смещением на подложке.