Травление сапфира (Al2O3) с применением индуктивно-связанной плазмы
Лаборатория OIPT: травление сапфира с наклоном боковой стенки в 80°.
Лаборатория OIPT: травление сапфира с наклоном боковой стенки в 80°.
Лаборатория OIPT: анизотропный профиль протравленного сапфира.
Технологические особенности:
- Реактивное ионное травление с применением индуктивно-связанной плазмы с помощью ВЧ генератора с параллельными электродами и частотой возбуждения плазмы - 13.56 МГц;
- ВЧ управляемый нижний электрод.
Результаты:
- Скорость: 65 нм/мин;
- Равномерность 2,5% по 50 мм пластине;
- Селективность к Ni маске > 7:1;
- Профиль: анизотропный (наклон 80°);
- Гладкие боковые стенки.