Травление ниобата лития (LiNbO3)

Технологические особенности реактивного ионного травления с применением индуктивно-связанной плазмы: ВЧ управляемый нижний электрод.

Более высокие скорости травления и более высокая степень анизотропии может быть достигнута после плазменной обработки: протонный обмен под воздействием плотной водородной плазмы от ICP источника.

Оборудование:

PlasmaPro100

Результаты:

Лаборатория OIPT: травления ниобата лития на глубину 4 мкм:

• Скорости травления > 50 нм/мин;
• Селективность к фоторезисту (на фото не удален) > 1.2:1
• Гладкие боковые стенки (шероховатость < 10 нм).

Этот процесс был оптимизирован для получения гладких стенок и избегания переосаждения. Возможна чуть большая шероховатость на нижней границе тренча.

Лаборатория OIPT: травления ниобата лития (LiNbO3) на глубину 4 мкм:

• Скорость травления > 40 нм/мин;
• Гладкие боковые стенки (шероховатость < 10 нм);
• Селективность к Ni (не удалена) маска > 4:1.

Лаборатория Бристольского университета: травление протонно-обменной мембраны из LiNbO₃ на 1 мкм:

• Рабочие газы - SF₆/O₂;
• Скорость травления 200 нм/мин;
• Маска - NiCr.

Технологические особенности реактивного ионного травления:

• ВЧ генератор с параллельными электродами и частотой возбуждения плазмы - 13.56 МГц;
• ВЧ управляемый нижний электрод;
• Охлаждаемый нижний электрод.

Оборудование: PlasmaPro80

Результаты:

• Скорость травления 3 нм/мин (скорость может быть увеличена добавлением в процесс фторной химии);
• Селективность к титановой маске: 20:1;
• Гладкая нижняя стенка.

Лаборатория OIPT: травление LiNbO₃ на 0.35 мкм (Ti маска не удалена, "фасетирование" маски переносится на LiNbO₃).