Травление молибдена (Mo)
 |
 |
 |
|---|---|---|
| Анизотропное травление (профиль 80°) структуры Mo(160 нм)/Au(250нм)/Mo(30нм) (фоторезист не удален) | Анизотропное травление (профиль 85°) молибдена толщиной 200 нм при скорости травления 60 нм, фоторезист удален ультразвуком | Травление золота распылением в среде аргона со скоростью 7 нм/мин |
Технологические особенности:
- реактивное ионное травление Mo во фторсодержащей среде
- скорость: 30 - 120 нм/мин
- профиль: анизотропный 80-87о
- равномерность 5%
- селективность к фоторезисту 1 : 1
- селективность к SiO2 маске 10 : 1