Сухое травление танталата лития (LiTaO3)

​
Травление LiTaO₃ с применением индуктивно-связанной плазмы​ на глубину 1 мкм в среде SF₆/O₂ со скоростью 200 нм/мин. Впоследствии эпитаксиально выращен ниобат лития (LiNbO₃), Университет г. Уорик, Англия.

​
Лаборатория OIPT: Глубина травления LiTaO₃ -3.4 мкм (маска - фоторезист).

Применение:

• Пьезоэлектрические устройства и ПАВ (поверхности акустических волн);
• Процесс травления проходит во фторной среде.

Результаты:

• Скорость: > 25 нм/мин;
• Равномерность 4% (по пластине 50 мм);
• Селективность к фоторезисту 0.5:1, к маске из Cr 5:1;
• Профиль 60-70°.