Система реактивного ионного травления PlasmaPro 80 RIE
PlasmaPro 80 RIE — это компактная система реактивного ионного травления с открытой загрузкой. Простая в использовании и недорогая система с возможностью реализации высококачественных процессов.
Системы на платформе PlasmaPro80 идеально подходят для научных исследований и разработок или мелкосерийного производства, размеры подложек могут доходить до 200 мм. Отсутствие шлюзовой камеры обеспечивает быструю загрузку-выгрузку пластин, что идеально подходит для исследовательских работ, создания опытных образцов и мелкосерийного производства.
Технологические особенности системы:
- малый размер системы;
- размер подложки до 200 мм в диаметре;
- низкая себестоимость;
- превосходный контроль процесса травления;
- турбомолекулярный насос обеспечивает высокую скорость откачки и низкое базовое давление;
- регистрации данных каждые 500мс позволяет определить состояние системы в любой момент времени;
- оптическая эмиссионная спектрометрия для определения конечной точки травления или окончания очистки камеры.
Широкий спектр материалов может быть протравлен методом RIE:
