Система для высокопроизводительного травления PlasmaPro100 Polaris

Система для высокопроизводительного травления PlasmaPro100 Polaris купить в Техноинфо

Система для высокопроизводительного травления одной пластины за один техпроцесс.



PlasmaPro100 Polaris обеспечивает низкие операционные издержки и высокий процент выхода годной продукции. Система ориентирована на работу с единственной подложкой в камере. Основные процессы: травление GaN, SiC и сапфира. Основа конкурентоспособности этой системы - качество и производительность вышеуказанных процессов травления.

Технологические особенности системы:

  • высокая скорость травления и равномерность для подложек размером до 200 мм в диаметре;
  • дизайн камеры ориентирован на работу с агрессивной химией;
  • возможность кластеризации с другими системами OIPT;
  • активно охлаждаемый держатель образцов, для поддержания требуемой температуры процесса;
  • эксклюзивный электростатический прижим образца для работы с подложками из сапфира и кремния;
  • мощный ICP источник для создания плазмы высокой плотности;
  • производительная система откачки.
  • передаточная станция (квадратная или шестиугольная)
  • вакуумная кассета (или нескольлько)