Напыление Ta2O5/SiO2 для DWDM

Напыление SiO₂/Ta₂O₅ для DWDM (мультиплексирование с разделением по спектральной плотности).

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology

Оборудование:

Ionfab 300 Plus

Результаты:

Скорость осаждения:
- Ta₂O₅ - 3.35 A/с (1000 эВ, 450 мА);
- SiO₂ - 3 A/с (1000 эВ, 450 мА).
Равномерность:
- по заданной подложке радиусом 50-95 мм +/- 0,03%;
- повторяемость от подложки к подложке +/- 0,03%.
Коэффициент преломления:
- Ta₂O₅ - 2,065+/-0,002 (на 1550 нм);
- SiO₂ - 1,470+/-0,001 (на 1550 нм).
Контроль внутреннего напряжения: от 150 до 200 МПа;
Время работы: 21 час (104 слоя).