Напыление кремния (Si)

Оборудование:

Ionfab 300 Plus

Особенности технологического процесса:

• Скорость осаждения: > 20 нм/мин;
• Равномерность осаждения: <±0.5% по пластине в 150 мм (<±0.1% по диаметру 20 мм).

Схема установки по ионно-лучевому напылению: