Изготовление ионно-лучевым методом УФ зеркала HfO2/SiO2

Оборудование:

Ionfab 300 Plus

Особенности технологии:

• Для изготовления УФ зеркала с пиком на 266 нм нужно 28 чередующихся слоев (HfO₂/SiO₂);
• Процесс проходит в атмосфере аргона и кислорода;
• Скорости осаждения:
  • HfO₂ > 7 нм/мин;
  • SiO₂ > 12 нм/мин.
• Равномерность <±0.2% по оптической подложке из кварцевого стекла диаметром 1 дюйм, закрепленной в 8 дюймовом подложкодержателе;
• Коэффициент преломления HfO₂ - 2.112 (на 632,8 нм);
• Равномерность HfO2 <±0,5% по подложке в 3 дюйма (±0,1% по 10 мм от центра).

Теоретическая модель рассматриваемого покрытия при углах падения 0° и 45°.