Система атомно-слоевого осаждения FlexAL
Система атомно-слоевого осаждения (ALD) со шлюзовой камерой. Система для самоограничивающегося послойного роста сплошных тонких пленок, отличающихся высокой конформностью.
Семейство систем FlexAL компании Oxford Instruments Plasma Technology предоставляет новые возможности в разработке наноразмерных структур и приборов, реализуя процессы атомно-слоевого осаждения с удаленной плазмой и термическое ALD в составе одной системы. Процесс атомно-слоевого осаждения самолимитированный, т.е. после достижения моноатомной толщины пленки процесс останавливается.
Технологические особенности системы:
- Максимальная гибкость в выборе материалов и подложек;
- Низкотемпературные процессы, обусловленные наличием удаленной плазмы;
- Быстродействующая система подачи газа (t<10 мс);
- Высокопроизводительная система откачки, для быстрой смены среды в камере;
- Повторяемость процессов ~1%;
- Равномерность по 200 мм пластине <2%;
- Отличное покрытие структур с высоким аспектным соотношением;
- Возможность объединяться в кластер с другими системами OIPT.
Характерные свойства получаемых пленок:
- Высокое пробойное напряжение;
- Низкая дефектность;
- Низкое сопротивление проводящих нитридов и металлов.
Для осаждения каждой пленки необходимо использовать специальный прекурсор. Рассмотрим эту технологию на примере осаждения оксида алюминия на кремниевую подложку, который проходит в 4 этапа (см. рис.):
1) 2) 3) 4)
На первом этапе вы, с помощью быстродействующей системы подачи газа, напускаете в рабочую камеру прекурсор — триметилалюминий (TMA), который реагирует с поверхностью, образуя оксид алюминия с двумя метильными группами. Далее – продувка инертным газом. Третьим этапом происходит напуск кислорода в камеру с поджигом плазменного разряда. Активированный кислород реагирует с алюминием, ОН-группа вытесняет метильные группы и после еще одной продувки мы имеем слой оксида алюминия и ОН-группой. Далее эти циклы повторяются и у нас получается Al2O3.