Атомно-слоевое осаждение платины (Pt) — термическое и с применением удаленного источника плазмы
Лаборатория Мичиганского университета: пленка Pt толщиной 20 нм, осажденная на тренчи шириной 75 нм (аспектное соотношение после осаждения покрытия изменилось с 33 до 71).
Покрытие из платины, осажденное на текстильный материал.
Зависимость скорости роста пленки от температуры процесса. Можно видеть, что варьирую концентрацией кислорода в удаленной плазме кислород можно получать как чистую Pt пленку, так и оксидную пленку PtO2
Зависимость толщины пленки от количества циклов атомно-слоевого осаждения.
При чистом термическом ALD сложно получить платиновое покрытие ввиду отсутствия образования связей между атомами платины и кислорода. В этом случае удаленная плазма может помочь в создании зародышевого слоя. Как только процесс ALD платины запущен, он может быть продолжен как термическим механизмом, так и с помощью удаленной плазмы, при этом скорость будет примерно одинакова.
В системах OIPT процесс ALD может быть выполнен с использованием:- только термического механизма- ассистирования озоном- ассистирования удаленной плазмой без изменения конфигурации оборудования.Многошаговый процесс с использованием всех этих технологий может быть применен в случае необходимости
Технологические особенности:
- металлический прекурсор: MeCpPtMe3
- неметаллический прекурсор: плазма с содержанием O2
- наличие водородной плазмы уменьшает температуру осаждения Pt покрытия
Результаты:
- О2 содержащая плазма значительно снижает время образования зародышевого слоя
- скорость осаждения 0,45 А/цикл (время цикла 7-8 с) --> 0.3-0.4нм/мин --> 18-24 нм/час
- сопротивление < 13 мкОм см (равномерность +/- 2 %)
В системах OIPT процесс ALD может быть выполнен с использованием:- только термического механизма- ассистирования озоном- ассистирования удаленной плазмой без изменения конфигурации оборудования.Многошаговый процесс с использованием всех этих технологий может быть применен в случае необходимости