Система для высокопроизводительного травления PlasmaPro100 Polaris
Система для высокопроизводительного травления одной пластины за один техпроцесс.
PlasmaPro100 Polaris обеспечивает низкие операционные издержки и высокий процент выхода годной продукции. Система ориентирована на работу с единственной подложкой в камере. Основные процессы: травление GaN, SiC и сапфира. Основа конкурентоспособности этой системы - качество и производительность вышеуказанных процессов травления.
Технологические особенности системы:
- высокая скорость травления и равномерность для подложек размером до 200 мм в диаметре;
- дизайн камеры ориентирован на работу с агрессивной химией;
- возможность кластеризации с другими системами OIPT;
- активно охлаждаемый держатель образцов, для поддержания требуемой температуры процесса;
- эксклюзивный электростатический прижим образца для работы с подложками из сапфира и кремния;
- мощный ICP источник для создания плазмы высокой плотности;
- производительная система откачки.
Примеры технологических процессов, выполненных на PlasmaPro100 Polaris:
- передаточная станция (квадратная или шестиугольная)
- вакуумная кассета (или нескольлько)