Атомно-слоевое осаждение оксида алюминия (Al2O3)
Атомно-слоевое осаждение оксида алюминия (Al2О3) с применением удаленного источника плазмы
Производство: Oxford Instruments Plasma Technology
Толщина Al2O3 80 нм в тренче шириной 2,5 мкм (аспектное соотношение 10:1).
Атомно-слоевое осаждение оксида алюминия (Al2О3) — термическое
Фото с TEM покрытия Al2O3 толщиной 50 нм (увеличение х 100 000)