Атомно-слоевое осаждение оксида алюминия (Al2О3) — термическое
Фото с TEM покрытия Al2O3 толщиной 50 нм (увеличение х 100 000)
Технологические особенности осаждения:
- Металлический прекурсорr: TMA (триметил алюминия);
- Неметаллический прекурсор: радикалы H2О;
- Подача прекурсоров с контролируемой температурой;
- Доза прекурсора контролируется быстродействующей системой подачи газов;
- Температура осаждения: 100 - 400°C;
- Время цикла < 3c - для 200 мм подложки, для меньших подложек <3c;
- 0.9 A/цикл (при 300°C и дозе насыщения) --> 18 A/мин --> более 100 нм/ч (для 200 мм подложки), (быстрее для подложек меньших размеров);
- Равномерность: < ± 0.5 - 2 % (в зависимости от размеров подложки);
- Повторяемость < ± 1%;
- Коэффициент преломления: ~1.64.
 |
 |
|---|---|
| Фото с TEM покрытия Al2O3 толщиной 50 нм (увеличение х 100 000) |
Та же структура (увеличение х 800 000) |
Оборудование: FlexAl & OpAl
 |
 |
 |
|---|---|---|
| Оже спектроскопия полученного покрытия: Скорость распыления 74 А/мин, интервал 0,5 |
Равномерность по пластине 200 мм +/- 2% по 200 мм при 250 оС коэффициент преломления: 1,6435+/-0,0048 на 632 нм |
Скорость роста за цикл в зависимости от дозы H2O при 100 и 200 оС |