Травление ЦТС (цирконат-титанат свинца)

Травление ЦТС (цирконат-титанат свинца), описание процесса и оборудование

Лаборатория OIPT: анизотропное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы структуры ЦТС (400 нм) / Pt (120 нм) / Ti (30 нм) / низкотемпературный оксид (на заданную глубину).

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology


4391338c81f8b3fb71ffc404fa61b50f.jpeg
Лаборатория OIPT: анизотропное реактивное ионное травление ЦТС толщиной 1 мкм (фоторезист удален).

8004794a83189c268bf200478e84a7d7.jpeg
Лаборатория OIPT: анизотропное реактивное ионное травление ЦТС толщиной 1 мкм (фоторезист не удален).

RIE (реактивное ионное травление):

  • анизотропное травление;
  • скорость: примерно 20 нм/мин;
  • селективность к фоторезисту > 1:1;
  • селективность к лежащему в основе платиновому слою > 50:1;
  • равномерность ±3% (по 100 мм подложке).

ICP-RIE (реактивное ионное травление с применением индуктивно-связанной плазмы):

  • анизотропное травление;
  • скорость: 60-180 нм/мин;
  • селективность к фоторезисту > 0.5;
  • равномерность ±3% (по 100 мм подложке).

Для достижения вертикальных стенок и примерно постоянной скорости травления через всю ЦТС структуру и Pt слой может быть реализован многошаговый процесс. Процесс может быть оптимизирован, после окончания травления ЦТС структуры, при переходе к травлению платины возможно добиться селективности > 50:1. Возможен контроль конечной точки травления с помощью лазерного интерферометра или по оптической эмиссии.