Оборудование:
PlasmaPro80
PlasmaPro100
Особенности технологии и результаты:
Реактивное травление с применением
индуктивно-связанной плазмы |
Реактивное ионное травление |
![link to the ICP RIE technology page icp_r_ww.gif](/images/icp_r_ww.gif) |
![link to the RIE technology page rie_www.gif](/images/rie_www.gif) |
![SEM](/images/sem_et_1.jpg)
глубина - 10 мкм
скорость травления >200 нм/мин
(фото из подразделения компании Siemens) |
![SEM](/images/sem_cg_2.jpg)
глубина - 5 мкм
скорость травления: 50-100 нм/мин
(фото из университета Касселя) |