Система PlasmaPro Estrelas
Система для глубокого высокопроизводительного травления Si.
PlasmaPro Estrelas100 обеспечивает максимальную гибкость процессов. Благодаря аппаратной части, позволяющей осуществлять Bosch-процесс и криогенное травление в одной камере, данная система обеспечивает возможность создания как микро-, так и наноструктур. Технология глубокого кремниевого травления от Oxford Instruments реализованная на PlasmaPro Estrelas100 обеспечивает лучшую в отрасли производительность процесса.
Технологические особенности системы:
- размер подложек от 50 до 200 мм;
- нагрев вкладышей камеры до 150 С;
- гибкая конфигурация системы, обеспечивающая возможность разрабатывать устройства, техпроцесс изготовления которых может быть внедрен в производство с использованием того же оборудования;
- электростатический зажим образца;
- улучшенная стабильность плазмы, устраняющая "эффект первой пластины";
- уменьшенный эффект накопления полимерных отложений, что увеличивает среднее количество обрабатываемых пластин между механическими чистками;
- быстродействующие регуляторы расхода газа, изначально спроектированные для атомно-слоевого осаждения;
- уменьшенный объем рабочей камеры, позволяющий увеличить скорость прокачки газа и уменьшить шаг технологических процессов.
Примеры технологических процессов, выполненных на PlasmaPro Estrelas100: