Система PlasmaPro Estrelas



PlasmaPro Estrelas100 обеспечивает максимальную гибкость процессов. Благодаря аппаратной части, позволяющей осуществлять Bosch-процесс и криогенное травление в одной камере, данная система обеспечивает возможность создания как микро-, так и наноструктур. Технология глубокого кремниевого травления от Oxford Instruments реализованная на PlasmaPro Estrelas100 обеспечивает лучшую в отрасли производительность процесса.

Технологические особенности системы:

  • размер подложек от 50 до 200 мм;
  • нагрев вкладышей камеры до 150 С;
  • гибкая конфигурация системы, обеспечивающая возможность разрабатывать устройства, техпроцесс изготовления которых может быть внедрен в производство с использованием того же оборудования;
  • электростатический зажим образца;
  • улучшенная стабильность плазмы, устраняющая "эффект первой пластины";
  • уменьшенный эффект накопления полимерных отложений, что увеличивает среднее количество обрабатываемых пластин между механическими чистками;
  • быстродействующие регуляторы расхода газа, изначально спроектированные для атомно-слоевого осаждения;
  • уменьшенный объем рабочей камеры, позволяющий увеличить скорость прокачки газа и уменьшить шаг технологических процессов.

Примеры технологических процессов, выполненных на PlasmaPro Estrelas100:

  1. Bosch процесс травления кремния
  2. Криотравление кремния
  3. Смешанное травление кремния