Магнетронное распыление Титана (Ti)

Оборудование: PlasmalPro System 400
Количество магнетронов:

• до 4 при размере мишени 200 мм;
• до 5 при размере мишени 150 мм;
• до 6 при размере мишени 100 мм.

Технологические особенности:

• Магнетронное распыление;
• Вращающийся столик;
• Способ питания - постоянный ток.

Результаты:

• Сопротивление 7х10^-7 Ом*м (толщина слоя - 400 нм);
• Отражение (на длине волны 436 нм относительно Si) > 115% (толщина слоя 500 нм);
• Скорость нанесения: 30 нм/мин (при вращении); 300 nm/ min (при статике);
• Равномерность: +/- 5% (подложка диаметром 6 дюймов).

Зависимость коэффициента отражения Ti относительно Si от толщины слоя (нанесение при комнатной температуре).

Зависимость сопротивление титана от толщины слоя (нанесение при комнатной температуре).