/ Каталог / Микро- и нано-электроника / Плазмохимическое и физическое травление и осаждение / Технологические процессы / Процессы химического осаждения покрытий из газовой фазы / Процессы плазмохимического осаждения DLC покрытий / Химическое осаждение DLС при высоком давлении

Химическое осаждение DLС при высоком давлении

Химическое осаждение DLС при высоком давлении, описание процесса и оборудование

Лаборатория OIPT

Оборудование:

PlasmaPro80
PlasmaPro800

Особенности технологии: реактор с двумя параллельными электродами.

rie_www.gif

Результаты:

0470612c94ac92950b06b213c8baabf4.jpeg

1644447b339478c13c6684837c3ccf71.jpeg

Raman_SS