Глубокое травление Si с наклонными стенками
Сквозное травление кремния (h=50 мкм) с настраиваемым наклоном стенок.
Оборудование:
PlasmaPro100
PlasmaProEstrelas
Особенности технологии:
- реактивное ионное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы;
- фторная химия;
- гелиевый поддув под подложку.
