Глубокое травление полиимида с применением ICP источника

[:ru]

лаборатория OIPT: глубина — 50 мкм

[:en]лаборатория OIPT: глубина — 50 мкм[:]

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology

Описание

[:ru]

Оборудование:
PlasmaPro80
PlasmaPro100

Особенности технологии:
Реактивное ионное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы (ICP)
гелиевый поддув под подложку, нижний электрод - 13 МГц

Результаты:


Травление полиимида на 2-10 мкм	Травление полиимида на 2-10 мкм	Травление полиимида на 2-10 мкм

SEM

Лаборатория OIPT: глубина 8 мкм, анизотропное травление полиимида с использованием силилированного фоторезиста

скорость травления: >1,5 мкм/мин (3 мкм/мин с подтравом)
маски: Ti, Al, Cr, W или SiOxNy
селективность к Ti маске: >30:1 (к фоторезисту на основе кремния >30:1)
равномерность: +/- 3% по 100 мм подложке
профиль стенок: анизотропный 89-90^о (технологически контролируемый)

[:en]


Травление полиимида на 2-10 мкм	Травление полиимида на 2-10 мкм	Травление полиимида на 2-10 мкм

SEM

скорость травления: >1,5 мкм/мин (3 мкм/мин с подтравом)
маски: Ti, Al, Cr, W или SiOxNy
селективность к Ti маске: >30:1 (к фоторезисту на основе кремния >30:1)
равномерность: +/- 3% по 100 мм подложке
профиль стенок: анизотропный 89-90^о (технологически контролируемый)

[:]