Процессы выращивания углеродных нанотрубок
Химическое осаждение (PECVD) углеродных нанотрубок
Углеродные нанотрубки, выращенные при температуре 650оС в плазме с частотой 13 МГц, на зародышевом слое Со толщиной 5 нм. Диаметр нанотрубок — 70 нм, высота — 1 мкм.
Выращивание углеродных нанотрубок и осаждение Pt
Углеродные нанотрубки диаметром — 45 нм, высота — 1 мкм с аспектным соотношением 40.
Выращивание углеродных нанотрубок для микроэлектроники
Углеродные нанотрубки в сквозных отверстиях