Реактивное ионное травление InP для линз

	Cl-содержащая химия и реактивное ионное травление с применением источника с индуктивно связанной плазмы (RIE-ICP) позволяет достичь скорости травления до 150 нм/мин
	Контролируемая селективность (0.9 - 1.1):1 равномерность процесса гладкая поверхность для обеспечения слабого затухания сигнала шероховатость поверхности < 10 нм (для ICP)
	плазменный разряд горит между параллельными пластинами RIE-Mode (13.56 МГц) скорость травления 50 нм/мин
	контролируемая селективность от 1.5 до 2.5 равномерность процесса