Плазмохимическое и физическое травление и осаждение

Оборудование для плазмохимического ионно-лучевого травления и осаждения, атомно-слоевого осаждения, выращивания 2D структур, магнетронного распыления в компании Техноинфо.

Общее описание технологий плазмохимического и физического травления и осаждения (CVD, PVD, Etch) применяемых в современной микро- и наноэлектронике, оптике, фотонике, создании 2D структур.

Примеры результатов технологических процессов, полученных на системах Oxfrord Instruments Plasma Technology.