Атомно-слоевое осаждение оксида титана (TiO2) – Техноинфо

Атомно-слоевое осаждение оксида титана (TiO2) с применением удаленного источника плазмы

Пленка TiO₂ толщиной 300 нм, осажденная методом ALD в установке OpAL

Атомно-слоевое осаждение оксида титана (TiO2) с применением озона