Skip

Cистемы электронно-лучевого испарения



Комплектация, производительность и набор опций системы могут варьируются в зависимости от требований пользователя

запросить коммерческое предложение...запросить сервисную поддержку...

SVS предлагает разные варианты и конфигурации электронно-лучевых систем как для R&D целей, так и для массового производства.


Технологические особенности системы:

  • экраны для минимизации загрязнений рабочей камеры
  • Возможность установки тиглей для термического испарения в систему электронно-лучевого испарения
  • Охлаждение или нагрев подложки (до 800 оС)
  • Испарение электронным лучом из одного или нескольких тиглей (размер до 200 см3)
  • Оснастка для крепления подложек может включать в себя планетарный механизм с опцией вращением
  • контроль скорости осаждения кварцевыми датчиками
  • очистка подложек ВЧ смещением или ионным источником
  • ионное ассистрование во время осаждения покрытия
  • реактивное осаждение
  • толщина покрытий от нескольких нанометров до нескольких микрон
  • крио- или турбоотчкачка вакуумного объема
  • управление системой происходит посредством программируемого логического контроллера через ПК или HMI
  • ведение базы данных всех основных параметров процесса
  • возможность установки загрузочного шлюза или перчаточной камеры
  • мощность электронного пучка 3кВт, 6кВт, 8кВт, 10кВт и 12кВт
  • цифровая развертка с выбираемыми треугольной или синусоидальной формой волны, круговым рисунком или вращающейся линией, с программируемым центром и пределами развертки. Есть возможность сохранять несколько шаблонов развертки.