Cистемы ионно-лучевого травления и нанесения
Системы ионно-лучевого травления и нанесения для прецизионных технологических процессов.
SVS предлагает варианты и конфигурации ионно-лучевых систем как для R&D целей, так и для массового производства.
При создании своих ионно-лучевых систем SVS тесно сотрудничает с Ion Beam Scientific, производителем кауфмановских и холловских ускорителей RF и DС типа. Обе компании имеют большой опыт и знания в этой области.
Модельный ряд ионно-лучевых систем SVS:
- ViB 400 для R&D систем с 100 мм вращающимся охлаждаемым подложкодержателем (опции ионных источников ПТ и ВЧ диаметром 4 см);
- ViB 1600 для систем для мелкосерийного производства с 150 мм вращающимся охлаждаемым подложкодержателем (опции ионных источников ПТ и ВЧ диаметром 4/8/10/12/14 см);
- ViB 2000 для систем со средним масштабом производства с 200 мм вращающимся охлаждаемым подложкодержателем или планетарным механизмом с загрузкой 200 мм x 4 или 200 мм x 3 (опции ионных источников ПТ и ВЧ диаметром 16 см или 20 см);
- ViB 3000 для систем с серийным производством с загрузкой пластин 200 мм x 6 вращающимся охлаждаемым подложкодержателем (ВЧ ионный источник диаметром 30 см).
Разновидности конфигураций ионных источников:
- Ионный источник типа кауффмана (с питанием ПТ) диаметром до 160 мм с широким диапазоном настроек коллимирующих сеток. В качестве опций предусматриваются разные виды компенсации заряда: эмиттер электронов или полый катод;
- ВЧ кауффмановский ионный источник диаметром до 300 мм с широким диапазоном настроек коллимирующих сеток. Эмиттер электронов как основной вид компенсации пространственного заряда. ВЧ источник индуктивно связанной плазмы используется в качестве источника ионов, который может работать с реактивными газами;
- Бессеточный высокоточный низкоэнергетичный источник кауффмана хорошо подходит для обработки больших площадей. Совместим с реактивными газами и разными метдоми компенсации пространственного заряда.
- Подогрев подложки
- Отдельный модуль PreEtch
- Вакуумная кассета (опция
- Kатоды диаметром от 75 мм до 200 мм
- Охлаждение подложки до температур ниже 50oC во время воздействия ионного пучка, что позволяет не повреждать термочувствительные подложки, а также фоторезист;
- Вращение, наклон и перемещение по оси Z подложкодержателя позволяют добиться правильной геометрии источник-подложка и добиться нужной равномерности;
- Дизайн и геометрия камеры, а также широкий выбор конфигураций сеток ионного источника позволяют достигать равномерностей < +/- 3% и лучше;
- Откачка крио- или турбонасосами;
- Для более высоких скоростей откачки можно дополнительно установить насос водяного пара Polycold;
- Полная автоматизация системы за счет использования ПЛК, ПК с 15 дюймовым монитором, дружественного интерфейса ПО для пользователей, с базой для работы с рецептами;
- Опционально возможна установка детектора остаточных газов, а также систем определения конечной точки травления (оптических или ВИМС).