Skip

Cистемы ионно-лучевого травления и нанесения



Системы ионно-лучевого травления и нанесения для прецизионных технологических процессов

запросить коммерческое предложение...запросить сервисную поддержку...

SVS предлагает варианты и конфигурации ионно-лучевых систем как для R&D целей, так и для массового производства.

При создании своих ионно-лучевых систем SVS тесно сотрудничает с Ion Beam Scientific, производителем кауфмановских и холловских ускорителей RF и DС типа. Обе компании имеют большой опыт и знания в этой области

Модельный ряд ионно-лучевых систем SVS:

  • ViB 400 для R&D систем с 100 мм вращающимся охлаждаемым подложкодержателем (опции ионных источников ПТ и ВЧ диаметром 4 см)
  • ViB 1600 для систем для мелкосерийного производства с 150 мм вращающимся охлаждаемым подложкодержателем (опции ионных источников ПТ и ВЧ диаметром 4/8/10/12/14 см)
  • ViB 2000 для систем со средним масштабом производства с 200 мм вращающимся охлаждаемым подложкодержателем или планетарным механизмом с загрузкой 200 мм x 4 или 200 мм x 3 (опции ионных источников ПТ и ВЧ диаметром 16 см или 20 см)
  • ViB 3000 для систем с серийным производством с загрузкой пластин 200 мм x 6 вращающимся охлаждаемым подложкодержателем (ВЧ ионный источник диаметром 30 см)

Разновидности конфигураций ионных источников:

  • Ионный источник типа кауффмана (с питанием ПТ) диаметром до 160 мм с широким диапазоном настроек коллимирующих сеток. В качестве опций предусматриваются разные виды компенсации заряда: эмиттер электронов или полый катод 
  • ВЧ кауффмановский ионный источник диаметром до 300 мм с широким диапазоном настроек коллимирующих сеток. Эмиттер электронов как основной вид компенсации пространственного заряда. ВЧ источник индуктивно связанной плазмы используется в качестве источника ионов, который может работать с реактивными газами.
  • Бессеточный высокоточный низкоэнергетичный источник кауффмана хорошо подходит для обработки больших площадей. Совместим с реактивными газами и разными метдоми компенсации пространственного заряда.

Опции системы:

  • Охлаждение подложки до температур ниже 50oC во время воздействия ионного пучка, что позволяет не повреждать термочувствительные подложки, а также фоторезист.
  • Вращение, наклон и перемещение по оси Z подложкодержателя позволяют добиться правильной геометрии источник-подложка и добиться нужной равномерности.
  • Дизайн и геометрия камеры, а также широкий выбор конфигураций сеток ионного источника позволяют достигать равномерностей < +/- 3% и лучше
  • Откачка крио- или турбонасосами
  • For higher pumping speeds a Polycold water vapour pump can be optionally installed
  • Полная автоматизация системы за счет использования ПЛК, ПК с 15 дюймовым монитором, дружественного интерфейса ПО для пользователей, с базой для работы с рецептами
  • Опционально возможна установка детектора остаточных газов, а также систем определения конечной точки травления (оптических или ВИМС).